특허청, ‘韓·中·日 디자인포럼 개최
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특허청, ‘韓·中·日 디자인포럼 개최
  • 김미애 기자
  • 승인 2014.06.18 15:39
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[오마이건설뉴스-김미애기자]한국, 중국, 일본 등 3국의 디자인전문가가 한자리에 모인였다.

특허청은 중국, 일본 특허청과 공동으로 18일 서울 동대문디자인플라자 국제회의실에서‘한·중·일 디자인포럼’을 개최했다.

한·중·일 디자인포럼은 한국, 중국, 일본 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 당면 과제와 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성됐다.

매년 3국이 돌아가면서 개최하고 있으며 2012년에는 일본의 도쿄, 2013년에는 중국의 우쉬에서 개최된 바 있다.

올해 한·중·일 디자인포럼은 디자인의 법적 보호에 관한 내용뿐만 아니라, 3D 프린터의 대중화 등 동아시아 3국의 디자인계에서 일어나고 있는 변화의 움직임, 디자인의 공유와 활용을 통해 제3세계를 지원하거나 지역사회의 산업을 되살리고 있는 사례 등 디자인의 다양한 측면을 균형 있게 다뤘다.

김영민 특허청장은 “앞으로 특허청은 창조경제의 핵심 엔진이라고 할 수 있는 디자인의 창작이 더욱 활성화되고 창작자의 노력이 정당하게 보호될 수 있도록 제도적 기반을 다져나가겠다”고 밝혔다.


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